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    行業(yè)新聞

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    碳化硅和氮化鎵的專利井噴,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)階!

    時(shí)間:2025-04-02 來源:集邦半導(dǎo)體觀察 瀏覽量:3932

            近日,碳化硅和氮化鎵領(lǐng)域頻傳專利突破喜訊,多家企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)取得關(guān)鍵進(jìn)展,為半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展注入新動(dòng)力。

            這些專利成果聚焦于器件制造以及應(yīng)用拓展等核心環(huán)節(jié),有望推動(dòng)相關(guān)技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,提升產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。


    碳化硅晶體的生長(zhǎng)工藝及應(yīng)用專利

           3月20日,江蘇天科合達(dá)半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種碳化硅晶體的生長(zhǎng)工藝及應(yīng)用”的專利(公開號(hào)CN 119640393 A,申請(qǐng)日期為2024年12月)。

    專利摘要顯示,該發(fā)明采用石墨隔板將坩堝內(nèi)部分隔為7個(gè)裝料區(qū)域,裝填特定粒徑的碳化硅粉料,再用PVT法進(jìn)行碳化硅晶體的生長(zhǎng)。通過優(yōu)化裝料工藝,可提升粉料在生長(zhǎng)過程中升華氣體的均勻性和利用率,有助于爐內(nèi)溫場(chǎng)的穩(wěn)定,降低晶體相變發(fā)生的概率,減少晶體缺陷,從而提升晶體質(zhì)量。

    九峰山實(shí)驗(yàn)室氮化鎵技術(shù)突破

            3月24日,九峰山實(shí)驗(yàn)室科研團(tuán)隊(duì)取得重大突破,成功在全球范圍內(nèi)首次實(shí)現(xiàn)了8英寸硅基氮極性氮化鎵(N-polar GaNOI)高電子遷移率材料的制備。

    這一成果打破國(guó)際技術(shù)壟斷,采用硅基襯底,兼容8英寸主流半導(dǎo)體產(chǎn)線設(shè)備,集成硅基CMOS工藝,降低生產(chǎn)成本。材料性能顯著提升,兼具高電子遷移率和優(yōu)異的可靠性,鍵合界面良率超過99%,為大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化奠定基礎(chǔ)。氮極性氮化鎵材料在高頻段表現(xiàn)出色,適用于5G/6G通信、衛(wèi)星通信、雷達(dá)系統(tǒng)等領(lǐng)域,未來有望推動(dòng)多個(gè)高科技領(lǐng)域發(fā)展。


    大尺寸硅基的氮化鎵外延器件及生長(zhǎng)方法專利

            3月22日,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息表明,福州鎵谷半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)了“一種大尺寸硅基的氮化鎵外延器件及生長(zhǎng)方法”的專利(公開號(hào)CN 119653841 A,申請(qǐng)日期為2024年12月)。

    通過設(shè)置應(yīng)力釋放層,該發(fā)明可緩解緩沖層過厚產(chǎn)生的過高應(yīng)力,制作更厚緩沖層提升器件耐壓能力,同時(shí)使緩沖層缺陷和位錯(cuò)湮滅,提升結(jié)晶質(zhì)量,得到更平整器件表面利于芯片制作。

    source:國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局

    氮化鎵基半導(dǎo)體激光器元件專利

           3月22日,安徽格恩半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)“一種氮化鎵基半導(dǎo)體激光器元件”的專利(公開號(hào)CN 119651346 A,申請(qǐng)日期為2024年12月)。

    該發(fā)明通過在特定結(jié)構(gòu)中設(shè)置電流誘導(dǎo)自旋極化層,利用菲利普電離度特性,使激光器在注入電流時(shí)產(chǎn)生自旋極化效應(yīng),中和內(nèi)部極化場(chǎng),減少量子限制stark效應(yīng),降低電子泄漏和載流子去局域化,提升峰值增益和光功率。

    比亞迪1500V車規(guī)級(jí)碳化硅(SiC)功率芯片亮相

           比亞迪集團(tuán)執(zhí)行副總裁廉玉波于3月17日正式宣布,比亞迪自主研發(fā)的全新一代1500V車規(guī)級(jí)碳化硅(SiC)功率芯片誕生,這是行業(yè)內(nèi)首次實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)應(yīng)用的最高電壓等級(jí)車規(guī)級(jí)SiC功率芯片。

    該芯片是比亞迪超級(jí)e平臺(tái)的核心組成部分,支持兆瓦級(jí)快速充電,配合全域千伏高壓架構(gòu),可實(shí)現(xiàn)“油電同速”的超快充體驗(yàn),如漢L車型能達(dá)到充電5分鐘續(xù)航400公里。此芯片的研發(fā)成功,體現(xiàn)了比亞迪在碳化硅功率芯片領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力,也為新能源汽車的性能提升提供了關(guān)鍵支撐。

    source:比亞迪

    集成充電和逆變雙向電源的氮化鎵充電器散熱結(jié)構(gòu)專利

    3月21日,浙江綠源電動(dòng)車有限公司取得“一種集成充電和逆變雙向電源的氮化鎵充電器散熱結(jié)構(gòu)”的專利(授權(quán)公告號(hào)CN 222638962 U,申請(qǐng)日期為2024年6月)。通過將氮化鎵電路板組件安裝在充電器散熱框架的散熱空間內(nèi),有效提升了氮化鎵充電器的散熱性能。


    前驅(qū)體封裝容器及氣相沉積系統(tǒng)專利

           江蘇第三代半導(dǎo)體研究院有限公司于2025年3月取得一項(xiàng)名為“一種前驅(qū)體封裝容器及氣相沉積系統(tǒng)”的專利,授權(quán)公告號(hào)CN 222648108 U,申請(qǐng)日期為2024年6月。專利摘要顯示,該前驅(qū)體封裝容器包括第一腔體,第二腔體,緩沖腔體,通斷控制組件和充抽組件。該專利的設(shè)計(jì)能夠有效延長(zhǎng)封裝容器的使用時(shí)限,對(duì)于提高生產(chǎn)效率、降低成本具有重要意義。


    結(jié)語

            碳化硅和氮化鎵作為第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,具有高擊穿場(chǎng)強(qiáng)、高飽和電子漂移速率、高熱導(dǎo)率等優(yōu)良特性,在電動(dòng)汽車、5G通訊、新能源等領(lǐng)域應(yīng)用潛力巨大。此次一系列專利突破,將有助于解決行業(yè)長(zhǎng)期面臨的材料制備難題,推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)品性能提升和成本下降,加速產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。

          業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為,隨著這些專利技術(shù)的逐步落地應(yīng)用,碳化硅和氮化鎵產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)將迎來新的發(fā)展機(jī)遇,有望帶動(dòng)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)升級(jí)和產(chǎn)業(yè)變革,為經(jīng)濟(jì)社會(huì)的高質(zhì)量發(fā)展提供強(qiáng)有力的技術(shù)支撐。

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